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南宫体育深度解析红外勘探器
时间: 2024-12-30 01:56:27来源:南宫体育app下载 作者:ng娱乐电子游戏官网 浏览次数:23
  之前咱们跟咱们解析了红外勘探器的相关功用参数。 关于红外勘探器的作业原理你了解多少呢今日小编再持续前次的解说为咱们解析非制冷红外焦平面勘探器技能原理 及机芯介绍。   非制冷红外勘探器运用红外辐

  之前咱们跟咱们解析了红外勘探器的相关功用参数。 关于红外勘探器的作业原理你了解多少呢今日小编再持续前次的解说为咱们解析非制冷红外焦平面勘探器技能原理 及机芯介绍。

  非制冷红外勘探器运用红外辐射的热效应由红外吸收材料将红外辐射能转化成热能引起活络元件温度上升。活络元件的某个物理参数随之产生改动再经过所规划的某种转化机制转化为电信号或可见光信号以完成对物体的勘探。

  非制冷红外焦平面勘探器是热成像体系的中心部件。以下介绍了非制冷红外焦平面勘探器的作业原理及微测辐射热计、读出电路、真空封装三大技能模块剖析了影响其功用的要害参数。与微测辐射热计规划相关的重要参数包括低的热导、高的红外吸收率、适宜的热敏材料等读出电路的传统功用是完成信号的转化读出近年来也逐步加入了信号补偿的功用真空封装技能包括了金属管壳封装、陶瓷管壳封装、晶圆级封装和像元级封装。

  红外焦平面勘探器是热成像体系的中心部件是勘探、辨认和剖析物体红外信息的要害在军事、工业、交通、安防监控、气候、医学等各职业具有广泛的运用。红外焦平面勘探器可分为制冷型红外焦平面勘探器和非制冷红外焦平面勘探器制冷型红外焦平面勘探器的优势在于活络度高可以分辩更纤细的温度不同勘探间隔较远首要运用于高端军事装备非制冷红外焦平面勘探器无需制冷设备可以作业在室温状态下具有体积小、质量轻、功耗小、寿命长、本钱低、发动快等长处。虽然在活络度上不如制冷型红外焦平面勘探器但非制冷红外焦平面勘探器的功用已可满意部分军事装备及绝大多数民用范畴的技能需求。近年来跟着非制冷红外焦平面勘探器技能的不断进步和制作本钱的逐步下降其性价比快速提升为推进非制冷红外焦平面勘探器的大规划商场运用发明了杰出条件。

  非制冷红外焦平面勘探器首要是以微机电技能MEMS制备的热传感器为根底大致可分为热电堆/热电偶、热释电、光机械、微测辐射热计等几品种型其间微测辐射热计的技能开展十分迅猛所占商场份额也最大。近年来非制冷红外焦平面勘探器的阵列规划不断增大像元尺度不断减小而且在勘探器单元结构及其优化规划、读出电路规划、封装办法等方面呈现了不少新的技能开展趋势。本文将在介绍测辐射热计型非制冷红外焦平面勘探器的根底上剖析其技能开展趋势。

  非制冷红外焦平面勘探器从规划到制作可分红微测辐射热计、读出电路、线 大技能模块。下面别离对它们进行介绍。

  图1为单个微测辐射热计的结构示意图在硅衬底上经过MEMS技能成长出与桥面结构十分类似的像元也称之为微桥。桥面一般由多层材料组成包括用于吸收红外辐射能量的吸收层和将温度改动转化成电压或电流改动的热敏层桥臂和桥墩起到支撑桥面并完成电衔接的效果。微测辐射热计的作业原理是来自方针的热辐射经过红外光学体系聚集到勘探器焦平面阵列上各个微桥的红外吸收层吸收红外能量后温度产生改动不同微桥接纳到不同能量的热辐射其自身的温度改动就不同然后引起各微桥的热敏层电阻值产生相应的改动这种改动经由勘探器内部的读出电路转化成电信号输出经过勘探器外部的信号收集和数据处理电路终究得到反映方针温度散布状况的可视化电子图画。

  为了取得更好的功用需求在微测辐射热计的结构规划上做精心的考虑与参数折衷。首要的规划参数及要求包括微测辐射热计与其周围环境之间的热导要尽量小对红外辐射的有用吸收区域面积尽量大以取得较高的红外辐射吸收率选用的热敏材料需求具有较高的电阻温度系数TCR、尽量低的1/f噪声和尽量小的热时刻常数。

  如图1所示为使微测辐射热计与其衬底间的热导尽量小微桥的桥臂规划需求用低热导材料并选用长桥臂小截面积的规划。此外需将微测辐射热计勘探器阵列封装在一个真空的管壳内部以减小其与周围空气之间的热导。

  要使微测辐射热计对红外辐射的吸收率尽量高可从以下两方面下手。

  填充系数界说为微测辐射热计对红外辐射的有用吸收面积占其总面积的百分比。微桥的桥臂、相邻微桥之间的空地、衔接微桥与读出电路的过孔等所占的面积都是没有红外吸收才干的。图1所示的是典型的单层微桥结构其填充系数一般是60%70%且跟着像元尺度的减小单层结构的填充系数会进一步下降。

  要添加填充系数以取得更高的吸收率可以选用如图2所示的双层伞形微桥结构红外辐射吸收材料处于上方第二层形似撑开的雨伞桥臂及其他无吸收才干的部分都放到伞下的榜首层。这种结构的填充系数可做到90%左右。

  经过规划光学谐振腔也可以进步微测辐射热计对红外辐射的吸收率。因为有恰当一部分入射的红外辐射能量会穿透微桥结构的红外吸收层所以一般在微桥下方制作一层红外反射面将从上方透射来的红外辐射能量反射回红外吸收层进行二次吸收。吸收层与反射面之间的间隔关于二次吸收的效果有较大影响假如规划为红外辐射波长的1/4就可添加吸收层对反射回来的红外能量的吸收。对 814um的长波红外辐射该间隔约为22.5um。

  图3(a)所示为一品种型的谐振腔结构示意图反射面坐落读出电路的硅衬底外表所以微桥的桥面与硅衬底的间隔是1/4辐射波长图3(b)所示为另一品种型的谐振腔结构示意图反射面坐落微桥的下外表所以微桥的厚度要做成1/4辐射波长。

  热敏材料的选取关于微测辐射热计的活络度NETD有十分大的影响优选具有高温度电阻系数TCR和低1/f噪声的材料一起还要考虑到所选材料与读出电路的集成工艺是否便利高效。现在最为常用的热敏材料包括氧化钒VOx、多晶硅 a-Si、硅二极管等。微测辐射热计的NETD首要受限于热敏材料的1/f噪声这种噪声与材料特性密切相关不同材料的1/f噪声可能会相差几个数量级乃至对材料复合态的纤细调整也会带来1/f噪声的明显改动。

  20世纪80时代初美国的Honeywell公司在军方赞助下开端研讨氧化钒薄膜并于 20 世纪 80 时代末研宣布非制冷氧化钒微测辐射热计。氧化钒材料具有较高的TCR在室温环境下约为 2%/K3%/K其制备技能经过多年的开展已很老练在微测辐射热计产品中得到了广泛的运用。

  氧化钒也有多种复合形状如VO2、V2O5、V2O3等。单晶态的VO2、V2O5的TCR高达4%可是需求选用特别制备工艺才干得到V2O5的室温电阻太大会导致较高的器材噪声V2O3 的制备技能相对不太杂乱且室温电阻较低能得到更低的器材噪声成为要点研讨的氧化钒材料。

  法国原子能委员会与信息技能试验室/红外试验室CEA2LETI/LIR从1992年开端研讨多晶硅材料的勘探器现在技能上已很老练。多晶硅的TCR与VOx恰当也是一种得到较多运用的微测辐射热计材料其长处是与规范硅工艺彻底兼容制备进程相对简略。但因为多晶硅是无定形结构呈现的1/f噪声比VOx要高所以NETD一般不如VOx材料。因为选用多晶硅材料的微测辐射热计可以将薄膜厚度操控的十分小具有较低的热容所以在坚持较低热呼应时刻的一起也具有较小的热导可必定程度统筹图画刷新率和信号呼应率的要求。

  硅二极管正向压降的温度系数特性可用于红外勘探器的制作。红外吸收导致的温度改动可带来的PN结正向压降改动并不明显等效的TCR只要0.2%/K比一般的电阻型热敏材料低一个数量级。但硅二极管的长处在于其面积可做的比电阻的面积更小因而能做出尺度更小的像元取得更大阵列规划的焦平面。硅二极管微测辐射热计可在规范CMOS工艺线c;制作更为便利。

  非制冷红外焦平面勘探器的读出电路将每个微测辐射热计的细小电阻改动以电信号的办法输出。照射到焦平面上的红外辐射所产生的信号电流十分小一般为纳安乃至皮安级这种小信号很简略遭到其他噪声的搅扰因而读出电路的电学噪声要操控的尽量小避免对勘探器的活络度方针构成不必要的影响。

  传统读出电路的作业原理是给微测辐射热计的热敏薄膜施加固定的低噪声偏置电压将其随温度的阻值改动以电流改动的办法得到再由积分器转化成电压信号经驱动器输出如图4所示。

  勘探器制作工艺存在的误差会导致勘探器的输出信号存在非均匀性近年来一些下降读出信号非均匀性的规划办法逐步在读出电路上得到完成。例如列条纹非均匀性便是一种与读出电路密切相关的形状这是因为读出电路中有一些部件是焦平面阵列中每一列共用的如积分器。这种电路结构会给同一列的输出信号引进一些共性特征不同列之间的特征差异就表现为列条纹。针对列条纹的产生机理可以经过改善读出电路规划来有用地按捺乃至根本消除列条纹进步列与列之间的均匀性。

  前期的非制冷红外焦平面勘探器有必要运用热电温控器TEC来坚持焦平面阵列的温度安稳这是因为不同像元之间因为制作工艺的误差会带来阻值的差异终究表现为阵列的不均匀性即便一切像元承受相同的黑体辐射它们各自输出的电压信号幅值也是不同的即便一切像元面临相同的黑体辐射改动它们各自所输出的电压信号的改动量也是不同的。上述这种因为像元之间差异所导致的阵列不均匀性还会跟着焦平面温度的改动而改动使得勘探器输出信号呈现出杂乱的改动为后续信号处理作业带来困难。近年来跟着读出电路规划水平的进步在完成传统读出电路的行选列选、积分器、信号驱动等根底功用之外一些按捺像元输出信号随温度漂移的补偿电路也逐步用于读出电路规划然后可以完成无TEC运用使得非制冷红外焦平面勘探器在功耗、体积、本钱等方面更具有优势。

  微测辐射热计接纳方针红外辐射后的温度改动很弱小为了使其上面的热量可以坚持住避免与空气分子进行热交换需求将其置于真空环境下作业一般对线;。对非制冷红外焦平面勘探器真空封装的要求是 优异且牢靠的密闭性 具有高透过率的红外窗口高成品率低本钱。现在的封装技能可分为芯片级、晶圆级、像元级等其间芯片级封装技能依照封装外壳的不同又可分为金属管壳封装和陶瓷管壳封装。

  金属管壳封装是最早开端选用的封装技能技能已十分红熟图5是金属管壳封装运用的首要部件。因为选用了金属管壳、TEC和吸气剂等本钱较高的部件导致金属管壳封装的本钱一向居高不下使其在低本钱器材上的运用遭到限制。

  金属管壳封装办法的勘探器从前占有了非制冷红外焦平面勘探器的大部分商场不管国外仍是国内的出产厂商都有很多的此类封装产品。图6为几种量产的金属管壳封装的勘探器。跟着更低本钱的新封装技能的日渐老练现在金属管壳封装办法的勘探器所占商场份额现已明显削减。

  陶瓷管壳封装是近年来逐步遍及的红外勘探器封装技能可明显减小封装后勘探器的体积和分量且从原材料本钱和制作本钱上都比传统的金属管壳封装大为下降适宜大批量电子元器材的出产。陶瓷管壳封装技能的开展得益于现在无TEC技能的开展省去TEC可以减小对封装管壳体积的要求并下降本钱。图7为两种典型的陶瓷管壳封装红外勘探器。

  晶圆级封装是近两年开端走向有用的一种新式红外勘探器封装技能需求制作与微测辐射热计晶圆相对应的另一片硅窗晶圆硅窗晶圆一般选用单晶硅材料以取得更好的红外透射率并在硅窗口双面都镀有防反增透膜。微测辐射热计晶圆与硅窗晶圆经过精细对位红外勘探器芯片与硅窗逐个对准在真空腔体内经过焊料环焊接在一起终究再裂片成为一个个真空密闭的晶圆级红外勘探器。图8是一个晶圆级封装红外勘探器的剖面图和晶圆级封装示意图。

  与陶瓷管壳封装技能比较晶圆级封装技能的集成度更高工艺进程也有所简化更适宜大批量和低本钱出产。晶圆级封装技能的运用为红外热成像的大规划商场如车载、监控、手持设备等供给了具有满意性价比的勘探器。

  像元级封装技能是一种全新的封装技能恰当于在非制冷红外焦平面勘探器的每个像元微桥结构之外再经过MEMS技能制作一个倒扣的微盖将各个像元独立的密封起来。图9是其工艺进程的示意图其间15步是现在的微测辐射热计的MEMS工艺进程在这之后持续在微桥的桥面上方成长第二层献身层做为成长红外窗口薄膜的支撑层。待红外窗口薄膜及微盖四壁成长完成后在真空腔体内经过窗口上的开释孔将前后两次的献身层开释掉终究封堵住开释孔完成像元级真空封装。

  像元级封装技能使封装成为了MEMS工艺进程中的一个进程这极大地改动了现在的封装技能形状简化了非制冷红外焦平面勘探器的制作进程使封装本钱下降到极致。现在这种技能还处于研讨阶段但跟着像元级封装技能的老练和有用化非制冷红外焦平面勘探器的本钱还将大幅下降愈加靠近民用和消费级运用商场的需求。

  非制冷红外焦平面阵列勘探器是从20世纪80时代开端在美国军方支持下开展起来的在1992年悉数研发完成后才对外发布。初期技能道路包括德州仪器研发的BST热释电勘探器和霍尼韦尔研发的氧化钒VOx微测辐射热计勘探器。后来因为热释电技能自身的一些局限性微测辐射热计勘探器逐步胜出。2009年L-3公司终究宣告中止持续出产热释电勘探器。之后法国的CEA/LETI以及德州仪器公司又别离研发了非晶硅a-Si微测辐射热计勘探器。霍尼韦尔后来把技能授权给数家公司出产制作CEA/LETI的技能在新建立的ULIS公司出产。然后的近20年内美国的非制冷勘探器产生过屡次的公司并购重组现在国际上首要的非制冷焦平面勘探器制作商及各自的商场份额如图1所示。

  从现在到未来恰当长的时刻内非制冷商场将是VOx技能与a-Si技能两者竞赛的舞台。因为VOx开展时刻长而且美国是全球最大的红外商场所以VOx勘探器现在占有的商场份额处于领先地位。

  非制冷红外焦平面勘探器由许多MEMS微桥结构的像元在焦平面上二维重复摆放构成每个像元对特定入射角的热辐射进行丈量其根本原理图2a):红外辐射被像元中的红外吸收层吸收后引起温度改动进而使非晶硅热敏电阻的阻值改动b):非晶硅热敏电阻经过MEMS绝热微桥支撑在硅衬底上方并经过支撑结构与制作在硅衬底上的COMS独处电路相连c):CMOS电路将热敏电阻阻值改动转变为差分电流并进行积分放大经采样后得到红外热图画中单个像元的灰度值。

  为了进步勘探器的呼应率和活络度要求勘探器像元微桥具有杰出的热绝缘性一起为确保红外成像的帧频需使像元的热容尽量小以确保满意小的热时刻常数因而MEMS像元一般规划成如图3所示的结构。运用细长的微悬臂梁支撑以进步绝热功用热敏材料制作在桥面上桥面尽量轻、薄以减小热质量。在衬底制作反射层与桥面之间构成谐振腔进步红外吸收功率。像元微桥经过悬臂梁的两头与衬底内的CMOS读出电路衔接。所以非制冷红外焦平面勘探器是CMOS-MEMS单体集成的大阵列器材。

  热像测温用于防备性检测例如对电力输电线路、发电设备、机械设备等经过红外热像仪检测反常发热区域可以防备严重停机以及事端的产生。在修建方面用于检测房子的隔热效果、墙面外立面、空鼓、渗水和霉变等。其它的范畴还包括产品研发、电子制作、医学测温文制程操控等如图5所示。

  商用视觉增强的首要运用包括消防解救、安防监控、车载、船载的红外视觉增强等如图6所示。首要是运用红外成像无需外界光源、较强的穿透烟雾的才干、效果间隔远、成像对比度强等优势对人眼视觉进行有用的弥补。

  非制冷红外勘探器首要制作厂商美国FLIR SYSTEMS公司技能开展状况

  美国FLIR SYSTEMS公司是高功用红外热像仪体系研发、出产和出售的全球领先者也是国际上名列前茅的非制冷氧化钒红外焦平面勘探器的制作商。

  FLIR不独自出售焦平面勘探器都是跟着它的机芯或整机体系一起出售从FLIR推向商场的产品可看出其量产的红外勘探器的功用。现在FLIR非制冷焦平面勘探器的像元尺度以25um和17um为主面阵规划以336×256和640×512为主封装办法上既有陶瓷管壳封装 也有晶圆级封装的老练产品NETD方针约为40 mK左右热呼应时刻约1015 ms。总的来说FLIR的产品代表了现在国际干流先进水平.

  FLIR 的热成像相机机芯的规划旨在简略和有用地集成到更高档的组件和渠道。现罗列三款FLIR 非制冷勘探器的机芯产品。

  一Boson长波红外热像仪机芯从头界说了尺度、分量和功率(SWaP)的改造规范再次引领职业前锋。Boson选用FLIR全新的XIR™可扩展红外视频处理架构在交融 了先进的图画处理技能、视频剖析功用、外围传感器驱动、以及数个工业规范通讯 接口的一起仍坚持了极低的功耗。此外Boson供给品种繁复的镜头供客户挑选 因而热像仪机芯的终究尺度和分量依据镜头挑选而定。Boson细巧、简便、功用强大。

  之前咱们跟咱们解析了红外勘探器的相关功用参数。 关于红外勘探器的作业原理你了解多少呢今日小编再持续前次的解说为咱们解析非制冷红外焦平面勘探器技能原理 及机芯介绍。

  非制冷红外勘探器运用红外辐射的热效应由红外吸收材料将红外辐射能转化成热能引起活络元件温度上升。活络元件的某个物理参数随之产生改动再经过所规划的某种转化机制转化为电信号或可见光信号以完成对物体的勘探。

  非制冷红外焦平面勘探器是热成像体系的中心部件。以下介绍了非制冷红外焦平面勘探器的作业原理及微测辐射热计、读出电路、真空封装三大技能模块剖析了影响其功用的要害参数。与微测辐射热计规划相关的重要参数包括低的热导、高的红外吸收率、适宜的热敏材料等读出电路的传统功用是完成信号的转化读出近年来也逐步加入了信号补偿的功用真空封装技能包括了金属管壳封装、陶瓷管壳封装、晶圆级封装和像元级封装。

  红外焦平面勘探器是热成像体系的中心部件是勘探、辨认和剖析物体红外信息的要害在军事、工业、交通、安防监控、气候、医学等各职业具有广泛的运用。红外焦平面勘探器可分为制冷型红外焦平面勘探器和非制冷红外焦平面勘探器制冷型红外焦平面勘探器的优势在于活络度高可以分辩更纤细的温度不同勘探间隔较远首要运用于高端军事装备非制冷红外焦平面勘探器无需制冷设备可以作业在室温状态下具有体积小、质量轻、功耗小、寿命长、本钱低、发动快等长处。虽然在活络度上不如制冷型红外焦平面勘探器但非制冷红外焦平面勘探器的功用已可满意部分军事装备及绝大多数民用范畴的技能需求。近年来跟着非制冷红外焦平面勘探器技能的不断进步和制作本钱的逐步下降其性价比快速提升为推进非制冷红外焦平面勘探器的大规划商场运用发明了杰出条件。

  非制冷红外焦平面勘探器首要是以微机电技能MEMS制备的热传感器为根底大致可分为热电堆/热电偶、热释电、光机械、微测辐射热计等几品种型其间微测辐射热计的技能开展十分迅猛所占商场份额也最大。近年来非制冷红外焦平面勘探器的阵列规划不断增大像元尺度不断减小而且在勘探器单元结构及其优化规划、读出电路规划、封装办法等方面呈现了不少新的技能开展趋势。本文将在介绍测辐射热计型非制冷红外焦平面勘探器的根底上剖析其技能开展趋势。

  非制冷红外焦平面勘探器从规划到制作可分红微测辐射热计、读出电路、线 大技能模块。下面别离对它们进行介绍。

  图1为单个微测辐射热计的结构示意图在硅衬底上经过MEMS技能成长出与桥面结构十分类似的像元也称之为微桥。桥面一般由多层材料组成包括用于吸收红外辐射能量的吸收层和将温度改动转化成电压或电流改动的热敏层桥臂和桥墩起到支撑桥面并完成电衔接的效果。微测辐射热计的作业原理是来自方针的热辐射经过红外光学体系聚集到勘探器焦平面阵列上各个微桥的红外吸收层吸收红外能量后温度产生改动不同微桥接纳到不同能量的热辐射其自身的温度改动就不同然后引起各微桥的热敏层电阻值产生相应的改动这种改动经由勘探器内部的读出电路转化成电信号输出经过勘探器外部的信号收集和数据处理电路终究得到反映方针温度散布状况的可视化电子图画。

  为了取得更好的功用需求在微测辐射热计的结构规划上做精心的考虑与参数折衷。首要的规划参数及要求包括微测辐射热计与其周围环境之间的热导要尽量小对红外辐射的有用吸收区域面积尽量大以取得较高的红外辐射吸收率选用的热敏材料需求具有较高的电阻温度系数TCR、尽量低的1/f噪声和尽量小的热时刻常数。

  如图1所示为使微测辐射热计与其衬底间的热导尽量小微桥的桥臂规划需求用低热导材料并选用长桥臂小截面积的规划。此外需将微测辐射热计勘探器阵列封装在一个真空的管壳内部以减小其与周围空气之间的热导。

  要使微测辐射热计对红外辐射的吸收率尽量高可从以下两方面下手。

  填充系数界说为微测辐射热计对红外辐射的有用吸收面积占其总面积的百分比。微桥的桥臂、相邻微桥之间的空地、衔接微桥与读出电路的过孔等所占的面积都是没有红外吸收才干的。图1所示的是典型的单层微桥结构其填充系数一般是60%70%且跟着像元尺度的减小单层结构的填充系数会进一步下降。

  要添加填充系数以取得更高的吸收率可以选用如图2所示的双层伞形微桥结构红外辐射吸收材料处于上方第二层形似撑开的雨伞桥臂及其他无吸收才干的部分都放到伞下的榜首层。这种结构的填充系数可做到90%左右。

  经过规划光学谐振腔也可以进步微测辐射热计对红外辐射的吸收率。因为有恰当一部分入射的红外辐射能量会穿透微桥结构的红外吸收层所以一般在微桥下方制作一层红外反射面将从上方透射来的红外辐射能量反射回红外吸收层进行二次吸收。吸收层与反射面之间的间隔关于二次吸收的效果有较大影响假如规划为红外辐射波长的1/4就可添加吸收层对反射回来的红外能量的吸收。对 814um的长波红外辐射该间隔约为22.5um。

  图3(a)所示为一品种型的谐振腔结构示意图反射面坐落读出电路的硅衬底外表所以微桥的桥面与硅衬底的间隔是1/4辐射波长图3(b)所示为另一品种型的谐振腔结构示意图反射面坐落微桥的下外表所以微桥的厚度要做成1/4辐射波长。

  热敏材料的选取关于微测辐射热计的活络度NETD有十分大的影响优选具有高温度电阻系数TCR和低1/f噪声的材料一起还要考虑到所选材料与读出电路的集成工艺是否便利高效。现在最为常用的热敏材料包括氧化钒VOx、多晶硅 a-Si、硅二极管等。微测辐射热计的NETD首要受限于热敏材料的1/f噪声这种噪声与材料特性密切相关不同材料的1/f噪声可能会相差几个数量级乃至对材料复合态的纤细调整也会带来1/f噪声的明显改动。

  20世纪80时代初美国的Honeywell公司在军方赞助下开端研讨氧化钒薄膜并于 20 世纪 80 时代末研宣布非制冷氧化钒微测辐射热计。氧化钒材料具有较高的TCR在室温环境下约为 2%/K3%/K其制备技能经过多年的开展已很老练在微测辐射热计产品中得到了广泛的运用。

  氧化钒也有多种复合形状如VO2、V2O5、V2O3等。单晶态的VO2、V2O5的TCR高达4%可是需求选用特别制备工艺才干得到V2O5的室温电阻太大会导致较高的器材噪声V2O3 的制备技能相对不太杂乱且室温电阻较低能得到更低的器材噪声成为要点研讨的氧化钒材料。

  法国原子能委员会与信息技能试验室/红外试验室CEA2LETI/LIR从1992年开端研讨多晶硅材料的勘探器现在技能上已很老练。多晶硅的TCR与VOx恰当也是一种得到较多运用的微测辐射热计材料其长处是与规范硅工艺彻底兼容制备进程相对简略。但因为多晶硅是无定形结构呈现的1/f噪声比VOx要高所以NETD一般不如VOx材料。因为选用多晶硅材料的微测辐射热计可以将薄膜厚度操控的十分小具有较低的热容所以在坚持较低热呼应时刻的一起也具有较小的热导可必定程度统筹图画刷新率和信号呼应率的要求。

  硅二极管正向压降的温度系数特性可用于红外勘探器的制作。红外吸收导致的温度改动可带来的PN结正向压降改动并不明显等效的TCR只要0.2%/K比一般的电阻型热敏材料低一个数量级。但硅二极管的长处在于其面积可做的比电阻的面积更小因而能做出尺度更小的像元取得更大阵列规划的焦平面。硅二极管微测辐射热计可在规范CMOS工艺线c;制作更为便利。

  非制冷红外焦平面勘探器的读出电路将每个微测辐射热计的细小电阻改动以电信号的办法输出。照射到焦平面上的红外辐射所产生的信号电流十分小一般为纳安乃至皮安级这种小信号很简略遭到其他噪声的搅扰因而读出电路的电学噪声要操控的尽量小避免对勘探器的活络度方针构成不必要的影响。

  传统读出电路的作业原理是给微测辐射热计的热敏薄膜施加固定的低噪声偏置电压将其随温度的阻值改动以电流改动的办法得到再由积分器转化成电压信号经驱动器输出如图4所示。

  勘探器制作工艺存在的误差会导致勘探器的输出信号存在非均匀性近年来一些下降读出信号非均匀性的规划办法逐步在读出电路上得到完成。例如列条纹非均匀性便是一种与读出电路密切相关的形状这是因为读出电路中有一些部件是焦平面阵列中每一列共用的如积分器。这种电路结构会给同一列的输出信号引进一些共性特征不同列之间的特征差异就表现为列条纹。针对列条纹的产生机理可以经过改善读出电路规划来有用地按捺乃至根本消除列条纹进步列与列之间的均匀性。

  前期的非制冷红外焦平面勘探器有必要运用热电温控器TEC来坚持焦平面阵列的温度安稳这是因为不同像元之间因为制作工艺的误差会带来阻值的差异终究表现为阵列的不均匀性即便一切像元承受相同的黑体辐射它们各自输出的电压信号幅值也是不同的即便一切像元面临相同的黑体辐射改动它们各自所输出的电压信号的改动量也是不同的。上述这种因为像元之间差异所导致的阵列不均匀性还会跟着焦平面温度的改动而改动使得勘探器输出信号呈现出杂乱的改动为后续信号处理作业带来困难。近年来跟着读出电路规划水平的进步在完成传统读出电路的行选列选、积分器、信号驱动等根底功用之外一些按捺像元输出信号随温度漂移的补偿电路也逐步用于读出电路规划然后可以完成无TEC运用使得非制冷红外焦平面勘探器在功耗、体积、本钱等方面更具有优势。

  微测辐射热计接纳方针红外辐射后的温度改动很弱小为了使其上面的热量可以坚持住避免与空气分子进行热交换需求将其置于真空环境下作业一般对线;。对非制冷红外焦平面勘探器真空封装的要求是 优异且牢靠的密闭性 具有高透过率的红外窗口高成品率低本钱。现在的封装技能可分为芯片级、晶圆级、像元级等其间芯片级封装技能依照封装外壳的不同又可分为金属管壳封装和陶瓷管壳封装。

  金属管壳封装是最早开端选用的封装技能技能已十分红熟图5是金属管壳封装运用的首要部件。因为选用了金属管壳、TEC和吸气剂等本钱较高的部件导致金属管壳封装的本钱一向居高不下使其在低本钱器材上的运用遭到限制。

  金属管壳封装办法的勘探器从前占有了非制冷红外焦平面勘探器的大部分商场不管国外仍是国内的出产厂商都有很多的此类封装产品。图6为几种量产的金属管壳封装的勘探器。跟着更低本钱的新封装技能的日渐老练现在金属管壳封装办法的勘探器所占商场份额现已明显削减。

  陶瓷管壳封装是近年来逐步遍及的红外勘探器封装技能可明显减小封装后勘探器的体积和分量且从原材料本钱和制作本钱上都比传统的金属管壳封装大为下降适宜大批量电子元器材的出产。陶瓷管壳封装技能的开展得益于现在无TEC技能的开展省去TEC可以减小对封装管壳体积的要求并下降本钱。图7为两种典型的陶瓷管壳封装红外勘探器。

  晶圆级封装是近两年开端走向有用的一种新式红外勘探器封装技能需求制作与微测辐射热计晶圆相对应的另一片硅窗晶圆硅窗晶圆一般选用单晶硅材料以取得更好的红外透射率并在硅窗口双面都镀有防反增透膜。微测辐射热计晶圆与硅窗晶圆经过精细对位红外勘探器芯片与硅窗逐个对准在真空腔体内经过焊料环焊接在一起终究再裂片成为一个个真空密闭的晶圆级红外勘探器。图8是一个晶圆级封装红外勘探器的剖面图和晶圆级封装示意图。

  与陶瓷管壳封装技能比较晶圆级封装技能的集成度更高工艺进程也有所简化更适宜大批量和低本钱出产。晶圆级封装技能的运用为红外热成像的大规划商场如车载、监控、手持设备等供给了具有满意性价比的勘探器。

  像元级封装技能是一种全新的封装技能恰当于在非制冷红外焦平面勘探器的每个像元微桥结构之外再经过MEMS技能制作一个倒扣的微盖将各个像元独立的密封起来。图9是其工艺进程的示意图其间15步是现在的微测辐射热计的MEMS工艺进程在这之后持续在微桥的桥面上方成长第二层献身层做为成长红外窗口薄膜的支撑层。待红外窗口薄膜及微盖四壁成长完成后在真空腔体内经过窗口上的开释孔将前后两次的献身层开释掉终究封堵住开释孔完成像元级真空封装。

  像元级封装技能使封装成为了MEMS工艺进程中的一个进程这极大地改动了现在的封装技能形状简化了非制冷红外焦平面勘探器的制作进程使封装本钱下降到极致。现在这种技能还处于研讨阶段但跟着像元级封装技能的老练和有用化非制冷红外焦平面勘探器的本钱还将大幅下降愈加靠近民用和消费级运用商场的需求。

  非制冷红外焦平面阵列勘探器是从20世纪80时代开端在美国军方支持下开展起来的在1992年悉数研发完成后才对外发布。初期技能道路包括德州仪器研发的BST热释电勘探器和霍尼韦尔研发的氧化钒VOx微测辐射热计勘探器。后来因为热释电技能自身的一些局限性微测辐射热计勘探器逐步胜出。2009年L-3公司终究宣告中止持续出产热释电勘探器。之后法国的CEA/LETI以及德州仪器公司又别离研发了非晶硅a-Si微测辐射热计勘探器。霍尼韦尔后来把技能授权给数家公司出产制作CEA/LETI的技能在新建立的ULIS公司出产。然后的近20年内美国的非制冷勘探器产生过屡次的公司并购重组现在国际上首要的非制冷焦平面勘探器制作商及各自的商场份额如图1所示。

  从现在到未来恰当长的时刻内非制冷商场将是VOx技能与a-Si技能两者竞赛的舞台。因为VOx开展时刻长而且美国是全球最大的红外商场所以VOx勘探器现在占有的商场份额处于领先地位。

  非制冷红外焦平面勘探器由许多MEMS微桥结构的像元在焦平面上二维重复摆放构成每个像元对特定入射角的热辐射进行丈量其根本原理图2a):红外辐射被像元中的红外吸收层吸收后引起温度改动进而使非晶硅热敏电阻的阻值改动b):非晶硅热敏电阻经过MEMS绝热微桥支撑在硅衬底上方并经过支撑结构与制作在硅衬底上的COMS独处电路相连c):CMOS电路将热敏电阻阻值改动转变为差分电流并进行积分放大经采样后得到红外热图画中单个像元的灰度值。

  为了进步勘探器的呼应率和活络度要求勘探器像元微桥具有杰出的热绝缘性一起为确保红外成像的帧频需使像元的热容尽量小以确保满意小的热时刻常数因而MEMS像元一般规划成如图3所示的结构。运用细长的微悬臂梁支撑以进步绝热功用热敏材料制作在桥面上桥面尽量轻、薄以减小热质量。在衬底制作反射层与桥面之间构成谐振腔进步红外吸收功率。像元微桥经过悬臂梁的两头与衬底内的CMOS读出电路衔接。所以非制冷红外焦平面勘探器是CMOS-MEMS单体集成的大阵列器材。

  热像测温用于防备性检测例如对电力输电线路、发电设备、机械设备等经过红外热像仪检测反常发热区域可以防备严重停机以及事端的产生。在修建方面用于检测房子的隔热效果、墙面外立面、空鼓、渗水和霉变等。其它的范畴还包括产品研发、电子制作、医学测温文制程操控等如图5所示。

  商用视觉增强的首要运用包括消防解救、安防监控、车载、船载的红外视觉增强等如图6所示。首要是运用红外成像无需外界光源、较强的穿透烟雾的才干、效果间隔远、成像对比度强等优势对人眼视觉进行有用的弥补。

  非制冷红外勘探器首要制作厂商美国FLIR SYSTEMS公司技能开展状况

  美国FLIR SYSTEMS公司是高功用红外热像仪体系研发、出产和出售的全球领先者也是国际上名列前茅的非制冷氧化钒红外焦平面勘探器的制作商。

  FLIR不独自出售焦平面勘探器都是跟着它的机芯或整机体系一起出售从FLIR推向商场的产品可看出其量产的红外勘探器的功用。现在FLIR非制冷焦平面勘探器的像元尺度以25um和17um为主面阵规划以336×256和640×512为主封装办法上既有陶瓷管壳封装 也有晶圆级封装的老练产品NETD方针约为40 mK左右热呼应时刻约1015 ms。总的来说FLIR的产品代表了现在国际干流先进水平.

  FLIR 的热成像相机机芯的规划旨在简略和有用地集成到更高档的组件和渠道。现罗列三款FLIR 非制冷勘探器的机芯产品。

  一Boson长波红外热像仪机芯从头界说了尺度、分量和功率(SWaP)的改造规范再次引领职业前锋。Boson选用FLIR全新的XIR™可扩展红外视频处理架构在交融 了先进的图画处理技能、视频剖析功用、外围传感器驱动、以及数个工业规范通讯 接口的一起仍坚持了极低的功耗。此外Boson供给品种繁复的镜头供客户挑选 因而热像仪机芯的终究尺度和分量依据镜头挑选而定。Boson细巧、简便、功用强大。

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